（二）存在的问题
我国建立知识产权保护制度的起步比较晚，而这一套制度的保护依据实际上是传统的制度模式。由于科技的发展已经强烈地冲击着这一传统模式，使得制度本身面临着变革的必要性。这样，以这种模式为背景的我国知识产权保护制度也越来越显露出落后于时代的特征和越来越多的不合理性。这就不可避免地造成我国高技术企业所面临的两难困境：旧的模式和制度尚未适应，却又必须接受新的挑战。因此，在转型期高技术企业所面临的问题，既有企业自身的问题，又有知识产权保护制度本身的问题。
1、知识产权保护制度自身存在的阻力因素和滞后因素
我国的《专利法》、《商标法》虽于制定实施之后应实际之需作过调整、修改，然而在实际操作过程中，仍表现一些法本身的不合理性。这种不合理性主要表现在两个方面。一方面是现有的制度自身的阻力因素，例如，从专利法的规定来看，阻碍专利制度促进高技术产业发展的主要表现为专利审批期限过长，专利费用过高。这是本次调查中企业反映较多的问题。企业往往因害怕在专利申请中投入过多的时间和精力而浅尝辄止。现行专利法虽然规定了专利申请公开的期限，却并未对实质审查的期限做出规定。[27]实践中，专利审查机构由于不受期限的约束，造成常有任意拖延专利实质审查时间的情况。[28]科技的飞速发展使得技术开发更新速度加快，专利的审查期限过长往往使得申请的专利技术丧失先进性，这不仅损害了申请人的利益，还会阻碍新技术尽快投入市场，并妨碍更尖端技术的产生。
专利从申请→审查被授予专利权→维持权利，需要专利申请人交纳申请费、审查费、专利年费。而且随着申请时间的拖延及存在时间的延长，费用会越来越高。实践中，高技术企业是否会愿意在此花费大的投入又是一个问题。
从商标法的具体规定来看，我国还尚未对联合商标制度和防御商标制度加以明确规定。而这两种制度更多地是保护驰名商标的合法权益问题。无法可依的局面造成知名品牌和知名企业的利益在不断地遭受各种形式的侵害的同时，经济和社会秩序也出现了混乱。
现行法律中还没有很好地解决商标权利保护与商号权利保护的衔接问题。实践中，高技术企业可以通过商标的推广使用来提高自已企业的知名度，树立商号在企业竞争中的地位；然而，由于我国法律不禁止同一文字作为商标、商号在不同地域或服务领域中注册、登记，这就使得商标权、商号权的载体相近或相同但却属于不同主体。这样，不仅容易造成消费者识别产品的困难，还导致商业流通领域内部秩序的混乱。解决好商号权保护与商标权保护的共存与分工问题，是当前立法的一个重要课题。
除了法律自身规定的不合理性阻力因素外，另一方面，传统知识产权保护模式所具有的历史性也是阻碍高技术企业发展的又一重要因素。不合理因素主要表现为现存知识产权保护制度相对于已经进步了的时代的滞后性。这一滞后性不仅存在于原有的专利权、商标权和版权保护领域，还表现在旧有的保护模式根本无法精当划定一些新兴问题的保护区域。下面，就从几个大的方面进行分别论述。
（1）从专利保护领域来看，信息技术、生物技术带来的一些新技术为专利保护制度的保护范围提出了新的课题
我国《计算机软件保护条例》特别规定了对计算机软件通过著作权法的形式予以保护，但这一条例却将软件登记规定为行政保护与司法保护的前提，这便与著作权获得保护的要件相异。同时，该条例规定的软件保护期限是25年，而不是著作权保护期限的作者终生及死后50年。而且，最为重要的是，通过著作权保护软件的方式保护的是软件的表现形式，是作为一种思想方法的表达方式加以保护的。实际上，目前许多软件的内容已经突破了表达方式的限界，具各实质性的技术内容；而如何区分具有专利“三性”特征的计算机软件与单纯的智力活动规则的方法又是专利法必须解决而尚未解决的问题。
联系我们
